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- arylsulfonic acid、arylsulfonate
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Japanese Journal
- プラズマグラフト重合法によるPTFE多孔基材を用いた細孔フィリング電解質膜の開発
- 山口 猛央,笠原 清司,中尾 真一
- 化学工学論文集 29(2), 159-164, 2003-03-20
- … 目的として,多孔性ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)基材細孔中にプラズマグラフト重合法を用いて,電解質グラフト鎖を充填した膜を開発した.電解質としてアクリル酸またはアクリル酸およびアリルスルホン酸の共重合体を用いた.本重合法により,膜厚方向および面方向に均一な,グラフト重合相分布を持つ膜の開発に成功した.また,スルホン酸基濃度が0.85mmol/g-grafted polymerを達成する細孔フィリング電解 …
- NAID 10013410274
- ポリマ-基質中における染料の光退色におよぼすニッケルアリ-ルスルホン酸塩の効果〔英文〕
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