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Japanese Journal
- 半導体微細化技術の現状と今後の展望:—半導体の未来を描く極端紫外光 (EUV) 露光光源—
- 溝口 計,山崎 卓,斎藤 隆志
- 電気学会誌 135(5), 302-305, 2015
- 1.はじめに 半導体の微細化の道筋はITRSのロードマップ(1)によれば,2011年に22 nm NAND Flashメモリの量産がダブルパターニングで開始された (図1) 。また16 nmでは過去EUVが本命とされていたが,光源出力の問題から量産技術の選択からはずされ (2012年),現在ではArF液浸リ
- NAID 130005066795
- 単一神経細胞をモジュールとして扱う神経回路アセンブリ
- 吉田 昭太郎,竹内 昌治
- 「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編] 31, 1-4, 2014-10-20
- NAID 40020270768
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- 左記は太陽電池のパターニングを示したもので、ガラス基板上の透明電極(ITO膜)をレーザ(YAG基本波)でスクライブし、その上にa-Si膜を成膜した後にレーザ(SHG光)で分離することによって個別の太陽電池ユニットを構成することが ...
- 部分的にドライコートを施せる「パターニング加工」のテクノロジーが商品開発のお役に立ちます。その技術の一つ、「シーライト加工」では、ドライコートと印刷を組み合わせ、0.1mm単位の細密な図形まで忠実に再現することが可能。
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- 型、種類、パターン、様式、パターニング、パターンニング、パターン化
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- pattern、pattern formation
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- パターン形成、パターニング、パターンニング
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