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Japanese Journal
- パルスレーザーメルティング法によって深い準位をとる不純物を過飽和ドープしたシリコンの赤外光吸収
- 梅津 郁朗,香野 淳,川邊 大介,松田 祐樹,中川 将,杉村 陽
- 電気学会研究会資料. OQD, 光・量子デバイス研究会 2012(1), 47-50, 2012-03-09
- NAID 10030329187
- メルティング・ポットの光と影 : ハワイにおける多文化共生社会の形成と問題点
- パルスレーザーメルティングによるSiへのTiの過飽和ドープ
- 川邊 大介,中川 将,松田 祐樹 [他],杉村 陽,梅津 郁朗
- 甲南大学紀要. 理工学編 58(1), 21-31, 2011-00-00
- NAID 110009573954
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