F導入

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和文文献

  • P-18 長粒性主働遺伝子Lk-f導入イネの登熟特性
  • Si-SiO_2界面へのF導入効果
  • 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 93(369), 103-108, 1993-12-10
  • NAID 110003309999

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